DGAP-News: SÜSS MicroTec führt LI Serie - die neuen Operator unterstützten Oberflächen Laser-Imager in den Markt ein

SÜSS MicroTec führt LI Serie - die neuen Operator unterstützten Oberflächen Laser-Imager in den Markt ein

DGAP-News: SÜSS MicroTec AG / Schlagwort(e): Produkteinführung

SÜSS MicroTec führt LI Serie - die neuen Operator unterstützten Oberflächen

Laser-Imager in den Markt ein

18.05.2016 / 14:00

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SÜSS MicroTec führt LI Serie - die neuen Operator unterstützten Oberflächen

Laser-Imager in den Markt ein

Garching, 19. Mai 2016 - SÜSS MicroTec, führender Hersteller von Anlagen

und Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie und verwandte Märkte, gibt

heute die bereits vorangekündigte Markteinführung der LI Serie, der neuen

Oberflächen Laser-Imaging-Plattform, bekannt.

Die vielseitig einsetzbare Oberflächen Laser-Imaging-Plattform LI eignet

sich sowohl für Sub-mikrometer Strukturierungen von belackten Substraten

als auch zur Mikro-Ablation, zur fotochemischen Behandlung als auch für

Messtechnikverfahren.

Die Strukturen, welche durch CAD-Verfahren vordefiniert sind, werden durch

präzise Bewegungen der zu strukturierenden Substrate unter einem

fokussierten und abtastenden Laserstrahl übertragen. Darüber hinaus ist die

Konfiguration der Oberflächen Laser-Imaging-Plattform extrem flexibel

anpassbar, so dass die jeweiligen Kundenanforderungen bestmöglich erfüllt

werden können. Das System kann Substrate mit einem kleinen Durchmesser bis

hin zu Durchmessern von 300 mm bearbeiten und erreicht dabei eine

Auflösung von 0,8 µm. Die Oberflächen Laser-Imaging-Plattform ermöglicht

des Weiteren eine Mehrschichtausrichtung, welche durch optische Systeme zur

oberen und unteren Ausrichtung unterstützt wird. Zusätzlich zu dem 405nm

GaN Laser für standardmäßige Lithografieprozesse mit dünnen

Fotolackschichten, kann ein zweiter Laser installiert werden, welcher

weitere Arbeitsabläufe, wie beispielsweise die Prozessierung dicker

Lackschicken, z.b. SU8, oder infrarot-sensibler Materialien ermöglicht.

Ein großer Vorteil der neuen Oberflächen Laser-Imaging-Plattform ist die

herausragende Flexibilität, die sich optimal für die verschiedenen

Anforderungen der akademischen sowie der industriellen Forschungs- und

Entwicklungsinstitute eignet. Die wichtigsten Anwendungsbereiche sind die

Nano- und 3D-Strukturierung für hochauflösende Lithografieverfahren,

Mikrofluidik, Maskenherstellung und die Definition von mikrooptischen

Komponenten.

"Mit der LI Serie ergänzen und erweitern wir unser Produktportfolio um ein

Gerät, welches komplementär zu unseren bestehenden Belichtungsgeräten im

Hinblick auf die gestiegenen Anforderungen an hochauflösende Anwendungen

ist.", sagt Dr. Per-Ove Hansson, Vorstandsvorsitzender der SÜSS MicroTec

AG. "Mit dieser Produkteinführung verstärken wir unsere Führungsposition

und bieten somit die umfassendste Palette von Produkten und Technologien

für den Forschungs- und Entwicklungsbereich in der Lithografie."

Über SÜSS MicroTec

SÜSS MicroTec ist einer der weltweit führenden Hersteller von Anlagen- und

Prozesslösungen für die Mikrostrukturierung in der Halbleiterindustrie und

verwandten Märkten. In enger Zusammenarbeit mit Forschungsinstituten und

Industriepartnern treibt SÜSS MicroTec die Entwicklung von neuen

Technologien wie 3D Integration und Nanoimprint Lithographie sowie

Schlüsselprozesse für die MEMS und LED Produktion voran. Weltweit sind mehr

als 8.000 installierte Systeme von SÜSS MicroTec im Einsatz, unterstützt

von einer globalen Infrastruktur für Applikationen und Service. Hauptsitz

der SÜSS Gruppe ist in Garching bei München. Für weitere Informationen

besuchen Sie www.suss.com.

Kontakt:

SÜSS MicroTec AG

Franka Schielke

Schleissheimer Strasse 90

85748 Garching, Deutschland

Tel.: +49 (0)89 32007-161

Fax: +49 (0)89 32007-451

Email: franka.schielke@suss.com

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Unternehmen: SÜSS MicroTec AG

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